Nghiên cứu khả năng tạo gốc tự do trong nước bằng công nghệ plasma lạnh - Phong, Hồ Quốc; Loan, Bùi Thị Hồng; Linh, Bùi Thị Trúc; Giao, Đặng Huỳnh; Dũng, Nguyễn Văn; Toàn, Phạm Văn; Hương, Huỳnh Liên (Tạp chí Khoa học Đại học Cần Thơ, 2018)
Nghiên cứu này tiến hành khảo sát các yếu tố ảnh hưởng đến nồng độ gốc tự do sinh ra trong dung dịch nước bằng công nghệ plasma lạnh. Các yếu tố như lưu lượng dung dịch chảy qua điện cực, điện áp, thời gian chiếu xạ plasma, các chất hữu cơ và loại nước được khảo sát. Lưu lượng nước chảy qua hai điện cực được thay đổi từ 1 Lít/Phút (L/P) đến 5 L/P, điện áp thay đổi từ 12 kV đến 16 kV, thời gian xử lý từ 10 phút đến 60 phút. Ngoài ra, nghiên cứu còn tiến hành xem xét sự ảnh hưởng của buồng plasma gián tiếp và lưu lượng không khí bơm vào buồng plasma trực tiếp đến nồng độ gốc tự do. Kết quả nghiên cứu cho thấy nồng độ gốc tự do giảm từ 7.57×10-2 xuống 5.41×10-2 mM khi tăng lưu lượng nước từ 1 đến 5 L/P. Nồng độ gốc tự do tăng từ 6.89×10-2 đến 7.77×10-2 mM khi tăng điện áp từ 12-16 kV. Nồng độ gốc tự do chiếm từ 7.52×10-2 đến 8.89×10-2 mM khi tăng thời gian chiếu xạ từ 10 đến 60 phút. Từ các kết quả trên, nghiên cứu đã xác định được các thông số vận hành để có hàm lượng gốc tự do lớn nhất cho quá trình xử lý là lưu lượng 1 đến 2 L/P, điện áp 16 kV và thời gian chiếu xạ là 60 phút. Hơn nữa, nghiên cứu còn cho thấy sự hiện diện các chất hữu cơ hay loại nước thải cũng ảnh hưởng mạnh đến nồng độ gốc tự do.